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Aridus3
膜去溶雾化系统

Aridus3 膜去溶雾化系统采用低流量、微量雾化器,只需极低量样品就能分析所有元素,同时系统全部采用PFA惰性材料,可应用于含HF酸的样品,独特的废液反抽技术进一步提高了稳定性。

技术参数

  • 可移动的模块化膜去溶设计,拆装和清洗方便
  • 带盖保护的PFA雾化室,避免静电干扰
  • 特有膜去溶技术,有效减少溶剂对ICP-MS的干扰,显著降低氧化物和氢化物水平
  • 大大改善信号的稳定性,即使是有机溶剂(如甲醇)
  • 提高ICP-MS的灵敏度4-10倍以上
  • 采用质量流量控制器(MFC)精准控制气体流量
  • 可通过Aridus Link软件远程控制加热温度和气体流速
  • 实验完成后可启动气体自动关闭程序,大大节约氩气成本

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